設備狀況查詢

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C05PR-BOE彭馨誼hypeng@niar.org.twPR(光阻去除及光罩清洗機)[Wet Bench-BOE]IDLE 設備正常開放中。C05 清洗區，自114年9月1日起設備申請報廢中，停止服務及使用。4吋/6 吋晶圓清洗請於 8 吋前段化學清洗蝕刻工作站清洗。2026/10/07 11:00:15
C05PR-SPM1彭馨誼hypeng@niar.org.twPR(光阻去除及光罩清洗機)[Wet Bench-SPM1]IDLE 設備正常開放中。C05 清洗區，自114年9月1日起設備申請報廢中，停止服務及使用。4吋/6 吋晶圓清洗請於 8 吋前段化學清洗蝕刻工作站清洗。2026/10/07 11:00:15
C05PR-SPM2彭馨誼hypeng@niar.org.twPR(光阻去除及光罩清洗機)[Wet Bench-SPM2]IDLE 設備正常開放中。C05 清洗區，自114年9月1日起設備申請報廢中，停止服務及使用。4吋/6 吋晶圓清洗請於 8 吋前段化學清洗蝕刻工作站清洗。2026/10/07 11:00:15
C06-01劉信良kentliu@niar.org.tw6"後段化學清洗蝕刻工作站[Wet Bench_backend-SC1]IDLE 設備開放正常使用中.2026/10/07 11:00:15
C06-02劉信良kentliu@niar.org.tw6"後段化學清洗蝕刻工作站[Wet Bench_backend-SC2]IDLE 設備開放正常使用中.2026/10/07 11:00:15
C06-03劉信良kentliu@niar.org.tw6"後段化學清洗蝕刻工作站[Wet Bench_backend-BOE]IDLE 設備開放正常使用中.2026/10/07 11:00:15
C09-01劉信良kentliu@niar.org.tw8"後段清洗蝕刻工作站(高溫糟)[8" Wet Bench_backend-SPM]IDLE 設備開放正常使用中.2026/10/07 11:00:15
C09-02劉信良kentliu@niar.org.tw8"後段化學清洗蝕刻工作站[8" Wet Bench_backend-BOE]IDLE 設備開放正常使用中.2026/10/07 11:00:15
C10-DHF彭馨誼hypeng@niar.org.tw前段8"RCA-DHF[8" Wet Bench-DHF]RUN  設備正常開放使用。2026/10/07 11:00:15
C10-GE-DHF彭馨誼hypeng@niar.org.tw前段8"Wet Bench-Ge-DHF[8" Wet Bench-Ge-DHF]IDLE  設備正常開放使用。2026/10/07 11:00:15
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機台狀態說明：
IDLE：可用；MANUAL：自行操作；RUN：使用中；DOWN：機台維修、歲修；EXAM：考核中；TRAINING：儀器操作訓練；MONITOR：機台監控；PM：機台校正、例行維護；TEST：機台測試；